Разрушение битумных материалов
Разрушение битумных материалов происходит под действием микроорганизмов вследствие того, что последние, выделяя ферменты, превращают компоненты битума в легкорастворимые в воде вещества, которые служат хорошей средой для дальнейшего развития микроорганизмов. Наиболее легко развиваются микроорганизмы в условиях переменной влажности. Сухой материал, даже зараженный микроорганизмами, не разрушается. В воде материал также может сохраняться достаточно долго, так как развитию микроорганизмов препятствует отсутствие достаточного количества воздуха. Разные бактерии и плесени в разной степени разрушают битум.
Так, например, бактерии Pseudomonas 1-5 А-С оказывают малое разрушение (3%) при инкубации в течение одной недели при 30°С, но сильно разрушают битум (90%) в течение 1 мес. при 30°С. Другой вид бактерий Pseudomonas aeruginosa через неделю вызывает разрушение на 20%, а через 1 мес. на 49,5%. Степень разрушения зависит от условий среды (температуры, щелочности, влажности, доступа воздуха) и от химического состава битумов. Разные микроорганизмы разрушают разные соединения, входящие в состав битумов.
Большее поражение происходит в теплом влажном климате, но имеются случаи разрушения в умеренном и даже холодном климате. Проводятся большие работы по выяснению групп углеводородов, наиболее подвергающихся атаке тех или иных видов микроорганизмов. Воздействие микроорганизмов сильно влияет на физико-механические свойства битумов.
В последние годы появились работы по исследованию действия на битумы ионизирующей радиации. При этом образуются газообразные продукты, увеличивается средняя молекулярная масса углеводородной смеси и вместе с тем растет вязкость. Такой процесс зависит от состава битумов. Он несколько ускоряется при содержании в битумах ненасыщенных олефинов и замедляется при высоком содержании ароматических компонентов.
Основной продукт, образующийся при радиационном облучении насыщенных углеводородов — водород. Количество образующегося водорода зависит от условий и составляет для углеводородов парафинового ряда (н-гексана, гептана, октана) около пяти молекул на каждые 100 эВ.